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国产光刻机突围时机降临，将正面狙击芯片美元

据报道，上海微电子正在致力于研发一种新型光刻机，预计今年年底将推出国产的第一台设备。同时，华为也取得了在极紫外线光刻机核心技术上的突破性进展，其相关专利也被国家知识产权局公布。这两条线索的重要性在于，中国企业在核心领域加快了自主研发步伐，光刻机产业链上下游正不断取得新进展和成果，中国的芯片产业正在崛起。

光刻机的高技术之处何在？有人用一个形象的比喻来解释，就像是两架歼-20战斗机齐头并进，一架机翼上挂着微雕刀，另一架上粘着一颗米粒，然后一架战斗机要用刀在另一架上的米粒上刻字，还要刻出标准的宋体字。

虽然我们在光刻机技术方面曾站在世界“第一方阵”，但之后却开始从国外购买光刻机，与中国当年放弃自主研发运-10飞机、转向与美国公司合作的做法类似。现在，中国正在加快光刻机产业的国产化进程。

目前，中国光刻机产业面临的难点主要集中在两个方面：光源和镜片。光刻机对于小尺寸、高功率和稳定性都有着较高的要求；而为了能够精确地照射到硅片上并刻画出微小的图案，需要一系列高精度和高光滑度的镜片来聚焦和校准光线。上海微电子已经可以量产90纳米分辨率的光刻机，并且望在28纳米分辨率上取得突破。此外，多家A股上市公司也已经涉足光刻机产业链的各个环节。

随着产业链上下游的共同努力，中国光刻机产业的国产化率正在逐步提升。尽管在原子层沉积、光刻、量测检测和离子注入等领域的国产化率仍然较低，但在清洗、热处理、去胶设备等方面已经取得了不错的进展。此外，在被认为是新一轮科技革命的量子科学领域，中国已经位列全球前列，其中华为在超导量子芯片方面的专利技术已经超过了英特尔，本源量子也研发出了中国首个自主研发的超导量子计算机。

近期有一条消息广泛传播，关于华为公司可能通过自主芯片设计与中芯国际的合作，在今年年底重返5G手机市场。华为的国产5G芯片采用了中芯N1工艺，这种先进工艺利用滤波器技术对芯片物理结构进行优化设计。

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