据报道,上海微电子正在致力于研发一种新型光刻机,预计今年年底将推出国产的第一台设备。同时,华为也取得了在极紫外线光刻机核心技术上的突破性进展,其相关专利也被国家知识产权局公布。这两条线索的重要性在于,中国企业在核心领域加快了自主研发步伐,光刻机产业链上下游正不断取得新进展和成果,中国的芯片产业正在崛起。
光刻机的高技术之处何在?有人用一个形象的比喻来解释,就像是两架歼-20战斗机齐头并进,一架机翼上挂着微雕刀,另一架上粘着一颗米粒,然后一架战斗机要用刀在另一架上的米粒上刻字,还要刻出标准的宋体字。
虽然我们在光刻机技术方面曾站在世界“第一方阵”,但之后却开始从国外购买光刻机,与中国当年放弃自主研发运-10飞机、转向与美国公司合作的做法类似。现在,中国正在加快光刻机产业的国产化进程。
目前,中国光刻机产业面临的难点主要集中在两个方面:光源和镜片。光刻机对于小尺寸、高功率和稳定性都有着较高的要求;而为了能够精确地照射到硅片上并刻画出微小的图案,需要一系列高精度和高光滑度的镜片来聚焦和校准光线。上海微电子已经可以量产90纳米分辨率的光刻机,并且望在28纳米分辨率上取得突破。此外,多家A股上市公司也已经涉足光刻机产业链的各个环节。
随着产业链上下游的共同努力,中国光刻机产业的国产化率正在逐步提升。尽管在原子层沉积、光刻、量测检测和离子注入等领域的国产化率仍然较低,但在清洗、热处理、去胶设备等方面已经取得了不错的进展。此外,在被认为是新一轮科技革命的量子科学领域,中国已经位列全球前列,其中华为在超导量子芯片方面的专利技术已经超过了英特尔,本源量子也研发出了中国首个自主研发的超导量子计算机。
近期有一条消息广泛传播,关于华为公司可能通过自主芯片设计与中芯国际的合作,在今年年底重返5G手机市场。华为的国产5G芯片采用了中芯N1工艺,这种先进工艺利用滤波器技术对芯片物理结构进行优化设计。
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